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NDR-4000 (M) DRIE深反应离子刻蚀
全自动控制。MFC,阀和顶盖都是气动式的,都可PC控制。系统的实时压力和直流自偏压以图表格式显示,而流量和功率则以字母数字形式显示。系统提供密码和安全连锁机制的四级权限控制。 NDR-4000(M
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NDR-4000 (A) 全自动DRIE深反应离子刻蚀
更多的MFC’s 用于硅的深度刻蚀,带气动截止阀,所有的慢/快通道采用电磁阀和气动阀控制,电抛光的不锈钢气体管路带有VCR和VCO(压控振荡器)配件,所有导管以尽可能短的导轨密封设计,从而减低空间浪费
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NPC-4000(M) 等离子刻蚀机
表面 NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。 紧凑型立式系统手动上下载片不锈钢、铝制腔体或钟罩式
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NRE-4000 (M) 反应离子刻蚀
腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜典型的硅刻蚀速率,400 ?/min大自偏压淋浴头气流分布无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力支持:RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测
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NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
源用于钝化层沉积 NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。 NIE-4000(M)IBE
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NEE-4000 (M) 电子束蒸发系统
10KW开关电源涡轮分子泵,极限真空5x10-7Torr NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。 顺序
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NRE-3500 (M) RIE反应离子刻蚀机
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NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
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NRE-3000 RIE反应离子刻蚀机
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NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀
支持8个MFC双刻蚀能力支持:RIE以及PE刻蚀(可选) NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,是基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。 铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜水冷
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